Próxima Generación de Equipos de Litografía
POR: REDACCIÓN
La máquina de fabricación de circuitos integrados más avanzada que existe ahora mismo es el equipo de litografía de ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura que produce la empresa neerlandesa ASML.
Esta complejísima máquina pesa tanto como dos Airbus A320 e incorpora más de 100.000 piezas, 3.000 cables, 40.000 pernos, y también más de 2 km de conexiones eléctricas. Esta compañía de Países Bajos prevé entregar a sus clientes anualmente a partir de 2025 unos 20 equipos de este tipo con un propósito: poner en sus manos la posibilidad de producir chips de 2 nm y más allá.
Uno de los componentes críticos de los equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo, que, por el momento, solo tiene ASML, es el láser pulsado de dióxido de carbono que se emplea para alimentar la fuente de luz de ultravioleta extremo. Este dispositivo fue desarrollado por ASML y el Laboratorio Nacional Lawrence Livermore (LLNL), de EEUU.
De hecho, esta última organización trabaja en el desarrollo de fuentes de luz de ultravioleta extremo basadas en plasma desde 1997, por lo que es una de las colaboradoras más relevantes de la compañía europea.
Los láseres BAT están casi listos para revolucionar la litografía
El LLNL lidera un proyecto de investigación que persigue afianzar los principios tecnológicos que empleará la próxima generación de máquinas de litografía. Su corazón es un láser muy avanzado conocido como BAT (Big Aperture Thulium) que utiliza fluoruro de litio y tulio dopado como sistema de ganancia para incrementar la potencia y la intensidad de los haces láser. En los equipos de litografía UVE los láseres de alta potencia calientan instantáneamente decenas de miles de diminutas gotas de estaño en un solo segundo hasta que alcanzan una temperatura de medio millón de grados Celsius.
